设备型号：Element GD

设备厂商：美国Thermo Fisher

技术参数：

    质量范围: 2-260amu；灵敏度(峰高，总离子流):>1 x 1010 cps，1.6 x 10-9 A，铜样品，中分辨(R ≥ 4000)；暗流：< 0.2 cps；动态范围：>1012线性范围，自动交叉校正；最小切换时间：计数模式：0.1 ms，模拟模式：1 ms，法拉第杯模式：1 ms；质量分辨率：3个固定分辨率：≥300, ≥4000, ≥10,000 (10%峰谷)；分辨率切换时间：≤ 1 s；质量稳定性：25 ppm/8小时；扫描速度(磁场)：< 150 ms从m/z 7到238到7；扫描速度(电场)：1 ms/跳峰，与质量范围无关

仪器设备特点：

    检测覆盖元素周期表中多种元素，检测时间小于10分钟，在一次扫描中，从基体到痕量元素全部能够完成，深度分布曲线，影响直接定量的基体效应最小等特点。

测试范围：

    可检测最高7个9纯度的多晶硅等样品中杂质含量。固体样品直接检测，可做导体、半导体样品。另外适用于石英材料、等其他非金属材料中金属杂质含量测定。

联系人：杨学根    电话：0518-87027282